.png "عصر ایران")
۰۱ اسفند ۱۴۰۴
به روز شده در: ۰۱ اسفند ۱۴۰۴ - ۱۷:۲۵
تحول شگفتانگیز رباتهای چینی از ۲۰۲۵ تا ۲۰۲۶ روی صحنه جشن سال نو 
درس هجدهم
ماسکهای نانویی برای لیتوگرافی در صنعت نیمههادی تولید میشود
یک شرکت ژاپنی با همکاری مرکز نوآوری نانوالکترونیک IMEC بلژیک در حال کار روی ارائه نسل بعدی ادوات لیتوگرافی است. این همکاری راهبردی در مسیر تجاریسازی یکی از مؤلفههای اصلی سامانههای لیتوگرافی نیمههادی با پرتوهای فرابنفش شدید (EUV) است.
در این پروژه مشترک قرار است روی غشاهای شفاف و نازک EUV تمرکز شود که نوعی ماسک EUV در برابر آلودگی است. مشارکت شرکت Mitsui Chemicals ژاپن و IMEC بلژیک به گونهای برنامهریزی شده است که ماسکهای مبتنی بر نانولولههای کربنی در بازه زمانی سالهای ۲۰۲۵ تا ۲۰۲۶ به مرحله تجاریسازی برسند.
به گزارش ایسنا، با افزایش نیاز به ایجاد محصولاتی با ابعاد کوچکتر و متراکمتر در مدارهای الکترونیکی، لیتوگرافی EUV به شدت مورد توجه شرکتها قرار گرفته است.
بازار تجهیزات لیتوگرافی EUV تا حد زیادی در اختیار شرکت هلندی ASML است که ماشینآلات پیشرفته و پیچیدهای را تولید کرده و به فروش میرساند. این دستگاهها پرتوهای فرابنفش ۱۳٫۲ نانومتری تولید کرده که این کار با استفاده از شلیک پالسهای مکرر لیزر CO2 بر روی قطرات قلع مذاب انجام میشود و باعث ایجاد پلاسمایی میشود که تابش فرابنفش شدید ایجاد میکند.
تابش EUV از طریق اپتیک خاصی به یک اسکنر برای الگوبرداری لیتوگرافی در مقیاس نانومتر منتقل میشود. اندازه بسیار کوچک از ویژگیهای ساختارهای ایجاد شده توسط این روش است، هر چند که آلودگی میتواند مشکلاتی برای کاربر ایجاد کند و هزینه گزافی را به تولیدکنندگان تحمیل کند. در نتیجه نیاز به ماسکهای محافظ وجود دارد که شرکت ASML برخی از ماسکهای مورد نیاز شرکتها را تولید میکرد.
در این پروژه مشترک، دو شرکت ژاپنی و بلژیکی روی ارائه نسل جدید ماسکهای حاوی نانولولهکربنی کار میکنند که میتواند نانولیتوگرافی با کیفیت بالا را امکانپذیر کند. براساس اطلاعات منتشر شده توسط این گروه، ماسکهای حاوی نانولولهکربنی میتواند انتقال پرتو تا ۹۴ درصد را تضمین کرده و مقادیر بسیار کمی از پرتوها منعکس میشوند.
به نقل از ستاد نانو، این ماسکهای نانویی میتوانند در برابر سطح قدرت EUV فراتر از ۱۰۰۰ W قرار بگیرند. این ماسکها نه تنها در برابر تابش فرابنفش شدید در لیتوگرافی شفاف بوده، بلکه به طول موجهای فرابنفش عمق (DUV) که در برخی از سیستمهای بازرسی و کنترل کیفیت نتایج لیتوگرافی استفاده میشود، قابل استفاده است.
لینک کوتاه: کپی لینک
سرمربی فولاد: به معنای واقعی یک تیم هستیم اتحادیه اروپا: برای کمک به هر روند دیپلماتیک معنادار در موضوع هستهای ایران آمادهایم اعلام برنامههای تیم ملی در فیفادی؛ ۴ فروردین، سفر به اردن مخالفت ۷۰ درصدی آمریکاییها با حمله به ایران هشدار امام جمعه اهواز به آمریکا: اگر دست به حماقت بزنید، پاسخ ایران مانند نیش پشهای نخواهد بود که فقط موجب خنده شود رکورد ثبتنام داوطلبان شوراهای اسلامی روستا شکسته شد سقوط خودروی حامل گردشگران چینی در دریاچه یخزده بایکال روسیه سقوط خودروی حامل گردشگران چینی در دریاچه یخزده بایکال روسیه مهندسی حکمرانی اینترنت ایران از صیانت ۲ تا سند شورای عالی انقلاب فرهنگی وریا غفوری کجاست؟ / دوروز است سر تمرین استقلال نیست عراقچی: واشنگتن از تهران نخواست که غنیسازی اورانیوم را بهطور دائم کنار بگذارد امام جمعه اردبیل: ترامپ فقط یک راه دارد؛ توافق با ایران! فرمانده آمریکایی: ۵ کشور به غزه نیرو اعزام میکنند گرمای کم سابقه در اردبیل زمینلرزه در مازندران
نظرسنجی
به نظر شما هدف آمریکا از مذاکرات اخیر با ایران چیست؟